“秦总，有这笔钱就足够了，一年之内，我们就能搞出193纳米的ARF光刻机，如果使用多重曝光技术，这种光刻机可以一直用到90纳米，但是，在下一代65纳米的工艺节点上，这种光刻机就被限制住了。”

大部分人都知道，制造芯片会被光刻机卡脖子，但是究竟怎么卡脖子，并不是很清楚。

制造芯片，本质上就是在硅片上刻蚀电路，经过多年发展，光刻法已经彻底成熟了，这就和照相机一样，在硅片上抹一层光刻胶，然后用光刻机......